UHV Systems & Components
離子源（Ion Source），顧名思義，發(fā)射離子的。俗稱離子槍。又因通常用Ar作為工作氣體，發(fā)射出Ar+，所以也···
CF35線性推進(jìn)器。行程50 mm, 75mm, 100 mm, 150mm可選. 設(shè)計(jì)緊湊，節(jié)約空間。性能穩(wěn)定，運(yùn)行絲滑。
IS 40F1是IS 40C1離子源的升級(jí)款，包含了束流聚焦功能。其功能也是用于樣品表面濺射清潔。通過(guò)調(diào)節(jié)聚焦能量···
IS 40E1是一款掃描離子源。可以在一定區(qū)域內(nèi)對(duì)樣品表面進(jìn)行掃描式濺射（工作距離23 mm時(shí)，掃描范圍為10 mm···
磁控濺射源 （Magnetron Source），用于磁控濺射（一種PVD薄膜沉積技術(shù)）。適用靶材尺寸為2 inch （MS2）或···
掃一掃 手機(jī)訪問(wèn)
546479113
24小時(shí)免費(fèi)咨詢
請(qǐng)輸入您的聯(lián)系電話，座機(jī)請(qǐng)加區(qū)號(hào)
免費(fèi)通話
546479113
